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潔凈室中工業(yè)除濕機(jī)的濕度控制_重復(fù)

作者:CEO 時(shí)間:2023-01-10

信息摘要:潔凈室的發(fā)展與現(xiàn)代工業(yè)、尖端技術(shù)密切聯(lián)系在一起。由于精密機(jī)械工業(yè)(如陀螺儀、微型軸承等加工)、半導(dǎo)體工業(yè)(如大規(guī)模集成電路生產(chǎn))等對(duì)環(huán)境的要求,促進(jìn)了潔凈室技術(shù)的發(fā)展。潔凈室的濕度控制潔凈室是控制污染的工作場(chǎng)所。據(jù)稱(chēng)

潔凈室中工業(yè)除濕機(jī)的濕度控制_重復(fù)

潔凈室中工業(yè)除濕機(jī)的濕度控制_重復(fù)

  潔凈室的發(fā)展與現(xiàn)代工業(yè)、尖端技術(shù)密切聯(lián)系在一起。由于精密機(jī)械工業(yè)(如陀螺儀、微型軸承等加工)、半導(dǎo)體工業(yè)(如大規(guī)模集成電路生產(chǎn))等對(duì)環(huán)境的要求,促進(jìn)了潔凈室技術(shù)的發(fā)展。

  潔凈室.jpg

  潔凈室的濕度控制

  潔凈室是控制污染的工作場(chǎng)所。

  據(jù)稱(chēng)潔凈室為環(huán)境污染物(如塵埃,氣載微生物,氣溶膠顆粒和化學(xué)蒸氣)提供了一個(gè)有利環(huán)境(用于研究,開(kāi)發(fā)和制造設(shè)備或工藝)。

  隨著對(duì)質(zhì)量檢測(cè)和控制的日益重視,對(duì)缺陷的零容忍和嚴(yán)格的生產(chǎn)實(shí)踐,潔凈室的需求增加了多方面。潔凈室現(xiàn)在被設(shè)計(jì)成特殊構(gòu)造的封閉區(qū)域,對(duì)空氣中的顆粒物,溫度,濕度,氣壓流動(dòng)模式,空氣運(yùn)動(dòng),振動(dòng),噪音和有生命的生物體進(jìn)行環(huán)境控制。

  潔凈室的主要應(yīng)用領(lǐng)域是電子工業(yè),制藥,航空航天,汽車(chē),信息技術(shù)和其他需要更嚴(yán)格制造條件的其他領(lǐng)域。潔凈室的應(yīng)用范圍廣泛,從制造微型小組件,電子設(shè)備和儀器到日益需要更多的藥品,食品和無(wú)菌無(wú)菌環(huán)境中的醫(yī)療和生物應(yīng)用的無(wú)菌性和純度。

  污染物可以來(lái)自各種各樣的來(lái)源:空氣(其清潔程度根據(jù)潔凈室的類(lèi)別和灰塵等級(jí)來(lái)定義),水,化學(xué)物質(zhì),物理植物本身和人員。

  不受控濕度的影響

  微生物生長(zhǎng)和腐蝕

  工作表面上的冷凝導(dǎo)致計(jì)劃延遲和產(chǎn)品質(zhì)量較差

  污染導(dǎo)致產(chǎn)品變質(zhì)

  不受控濕度的原因

  半導(dǎo)體和制藥無(wú)塵室高濕度的例子

  醫(yī)藥潔凈室.jpg

  半導(dǎo)體潔凈室

  微電路和微芯片制造需要稱(chēng)為光刻膠的吸濕聚合物來(lái)掩蓋用于蝕刻工藝的電路線。由于它們的吸濕性,它們吸收水分,因此微觀電路線被切斷或橋接,導(dǎo)致電路故障。另外,在半導(dǎo)體制造中,當(dāng)晶片制造區(qū)域中的濕度水平波動(dòng)時(shí),會(huì)出現(xiàn)許多問(wèn)題。烘烤時(shí)間通常會(huì)增加,整個(gè)過(guò)程通常變得更難以控制。高于35%RH的濕度會(huì)使組件容易受到腐蝕。此外,隨著顯影劑溶劑噴灑到晶片上,溶劑迅速蒸發(fā),冷卻晶片足以冷凝空氣中的水分。這種額外的水可以改變顯影劑特性并被吸收到半導(dǎo)體層上。這可能會(huì)導(dǎo)致膨脹和產(chǎn)品質(zhì)量問(wèn)題,從而需要額外的過(guò)程控制。

  制藥潔凈室

  在制藥生產(chǎn)設(shè)施中,高濕度會(huì)使細(xì)粉吸收水分,阻塞粉末進(jìn)入壓片機(jī)。由吸濕引起的粉末不一致導(dǎo)致崩潰的片劑和堵塞的片劑模具。濕度變化意味著難以調(diào)整床溫和噴霧速率,導(dǎo)致熱損傷和濕氣侵入。此外,空氣管道中的濕度會(huì)造成潮濕的地方,細(xì)菌菌落生長(zhǎng)并引起過(guò)程污染。

  一般建議

  干凈室內(nèi)的相對(duì)濕度應(yīng)控制在35-40%RH(這是工藝要求的一個(gè)函數(shù)),用于全年運(yùn)行。在低于20°C(70°F)的溫度下,這些RH水平通常保持在±2%RH的窄帶內(nèi)。

  工業(yè)除濕機(jī)解決方案

  工業(yè)除濕機(jī)可將露點(diǎn)始終保持在非常低的水平,如(-)60°C(空氣濕度的歧管減少),遠(yuǎn)遠(yuǎn)超過(guò)標(biāo)準(zhǔn)HVAC制冷系統(tǒng)所能達(dá)到的水平。

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